Characterization of plasma etching induced interface states at Tip-SiGe Schottky contacts

M. Mamor*, A. Sellai

*المؤلف المقابل لهذا العمل

نتاج البحث: المساهمة في مجلة › Article › مراجعة النظراء

8 اقتباسات (Scopus)

بصمة

أدرس بدقة موضوعات البحث “Characterization of plasma etching induced interface states at Tip-SiGe Schottky contacts'. فهما يشكلان معًا بصمة فريدة.

Physics

Material Science