Path to achieve sub-10-nm half-pitch using electron beam lithography

A. K.G. Tavakkoli, S. N. Piramanayagam, M. Ranjbar, R. Sbiaa, T. C. Chong

نتاج البحث: المساهمة في مجلة › Article › مراجعة النظراء

14 اقتباسات (Scopus)

بصمة

أدرس بدقة موضوعات البحث “Path to achieve sub-10-nm half-pitch using electron beam lithography'. فهما يشكلان معًا بصمة فريدة.

Material Science

Physics