Sub- 50-nm track pitch mold using electron beam lithography for discrete track recording media

R. Sbiaa*, E. L. Tan, R. M. Seoh, K. O. Aung, S. K. Wong, S. N. Piramanayagam

*المؤلف المقابل لهذا العمل

نتاج البحث: المساهمة في مجلة › Article › مراجعة النظراء

9 اقتباسات (Scopus)

بصمة

أدرس بدقة موضوعات البحث “Sub- 50-nm track pitch mold using electron beam lithography for discrete track recording media'. فهما يشكلان معًا بصمة فريدة.

Medicine and Dentistry

Physics

Computer Science

Material Science