Electron beam fabrication of scatter plate for scatter plate interferometer

J. Räsänen*, K. M. Abedin, K. Tenjimbayashi, T. Eiju, K. Matsuda, K. E. Peiponen

*المؤلف المقابل لهذا العمل

نتاج البحث: المساهمة في مجلةمراجعة النظراء

3 اقتباسات (Scopus)

ملخص

We have fabricated a computer-generated point symmetrical scatter plate with a negligible symmetry error for a scatter plate interferometer using electron beam writing equipment. The feature size of the scatterers in the scatter plate was 5 μm. The small scatterer size permits to test small f-number mirrors since the scattering angle of the light is large. This is the first example of such a fabrication of a scatter plate for the scatter plate interferometer. In this paper the advantages of the electron beam writing of a scatter plate are discussed and interferometric experiments are presented.

اللغة الأصليةEnglish
الصفحات (من إلى)1-4
عدد الصفحات4
دوريةOptics Communications
مستوى الصوت143
رقم الإصدار1-3
المعرِّفات الرقمية للأشياء
حالة النشرPublished - نوفمبر 1 1997
منشور خارجيًانعم

ASJC Scopus subject areas

  • ???subjectarea.asjc.2500.2504???
  • ???subjectarea.asjc.3100.3107???
  • ???subjectarea.asjc.1600.1606???
  • ???subjectarea.asjc.2200.2208???

بصمة

أدرس بدقة موضوعات البحث “Electron beam fabrication of scatter plate for scatter plate interferometer'. فهما يشكلان معًا بصمة فريدة.

قم بذكر هذا